ASML部分先进DUV光刻机出口受限：对准精度不高于2.5nm!--

今年3月8日，荷兰方面，计划对半导体技术出口实施新的管制，这些管制措施将在今天夏天之前开始实施。

3月9日上午，荷兰光刻机巨头阿斯麦发布声明表示，ASML预计必须申请许可证方可出口DUV设备。

同时公司还表示新的出口管制措施并不针对所有浸润式光刻系统，先进程度相对较低的浸润式光刻系统已能很好满足成熟制程为主的客户的需求。

据中国经营报，荷兰方面的动议未提及会对服务采取限制措施的表述，换言之，业内人士相信，已完成进口的DUV设备大都还处在关键部件的设计寿命以内，只要正常维护保养就暂无影响。一般，DUV设备6个月进行一次维护以替换或维修老化和损耗部件。

另外，按照目前业界理解，不受出口限制的DUV将停留在对准精度2.5纳米的水平。ASML已经出货的DUV光刻机中对准精度最高的是1.5nm的NXT:2050i。

所谓对准精度是指，光刻机在进行芯片加工时，在对准芯片和掩模图案时能够达到的精度。对准精度一般以纳米衡量，纳米数值越小，产品越先进。

至于所谓浸没式光刻机，属于193nm(光源)光刻机(分为干式和浸没式)，可以被用于16nm至7nm先进制程芯片的制造，但是目前也有被业界广泛应用在45nm及以下的成熟制程当中。